Китайський стартап показав прототип EUV-джерела потужністю понад 15 Вт

Китайський стартап Langdao Silex продемонстрував прототип джерела екстремального ультрафіолетового випромінювання (EUV) на 26-й Китайській міжнародній промисловій виставці у Шанхаї. Установка FlintNano LPP-OXXO має заявлену вихідну потужність понад 15 Вт. Як повідомляє Tom's Hardware, під час виставки систему не запускали.

Параметри прототипу

У джерелі використано технологію плазми, створеної лазером: високоенергетичні лазерні імпульси спрямовують на дрібні нагріті металеві краплі, утворюючи дуже гарячу плазму та EUV-випромінювання. Система оснащена лазером потужністю 1000 Вт, що працює на частоті від 1 до 20 кГц. Заявлена ефективність перетворення енергії перевищує 2%, яскравість становить 100 Вт/(мм²·ср), а діаметр плазми — 60 мкм.

За специфікацією Langdao Silex, установка здатна працювати безперервно понад 100 годин. Компанія також заявляє про стабільність плазми на рівні 3% RMS і стабільність вихідної EUV-потужності на рівні 5%. Розробник стверджує, що 90% компонентів прототипу мають китайське походження, однак не уточнює, чи йдеться про кількість деталей, їхню вартість або інший показник.

До промислового застосування ще далеко

Потужність понад 15 Вт, імовірно, вимірювали безпосередньо в плазмі, а не в проміжному фокусі після системи збору випромінювання. Компанія не демонструвала повну систему збору EUV-випромінювання, тому пряме порівняння показника з промисловими джерелами є неточним.

Для масового виробництва мікросхем такої потужності недостатньо. Сучасне EUV-обладнання потребує потужніших лазерів, точних генераторів олов'яних крапель, систем захисту від уламків, довговічних колекторних дзеркал і високої надійності під час тривалої роботи. За даними TrendForce, на комерціалізацію технології Langdao Silex може знадобитися від трьох до п'яти років. Саме джерело світла є лише одним з елементів повноцінного EUV-сканера.